立式锥体磨,分散型锥体磨,胶体磨分散机二合一设备,高速剪切分散机,研磨型高速分散机
立式 锥体磨(胶体磨)工作原理:锥体磨(胶体磨)是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过锥体磨(胶体磨)定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。此款立式锥体磨(胶体磨)比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,研磨效果 好,zui高转速可以达到14000RPM。
CMSD2000系列的胶体磨(锥体磨)分散头的组合,可以先将物料(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。
.CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高ke技产品。
第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠
锥体磨(胶体磨)的研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有 粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和 后的粒径大小都比CM2000系列胶体磨的效果更加理想。
CMSD
2000系列胶体磨(锥体磨)分散机二合一设备设备选型表
型号
流量
L/H
转速
rpm
线速度
m/s
功率
kw
入/出口连接
DN
CMSD 2000/4
300
14000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7200
41
22
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2850
41
90
DN150/DN125
CMSD 2000/50
60000
1100
41
160
DN200/DN150
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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