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一种治疗痤疮、疥疮、皮脂溢出及酒糟鼻的药物。

一种复方硫洗剂的制备方法:硫酸锌30g沉降硫30g樟脑醑250ml甘油100ml羧甲基纤维素钠5g纯化水q.s

共制1000ml制法取羧甲基纤维素钠,加适量的纯化水,迅速搅拌,使成胶浆状;另取沉降硫分次加甘油研至细腻后,与前者混合。另取硫酸锌溶于200ml纯化水中,滤过,将滤液缓缓加入上述混合液中,然后再缓缓加入樟脑醑,随加随研磨, 后加纯化水至1000ml,搅匀,即得。

IKN改进型胶体磨是传统胶体磨和分散机的一体化设计,相对于传统胶体磨和分散机的串联而言更具优势。传统胶体磨与分散机串联的话存在时间差,当物料通过胶体磨之后,磨细后物料会出现抱团的现象,再经过分散机分散,效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话,物料磨细后,瞬间又通过分散工作组,进行分散,在物料还未抱团之前,就进行了分散,一个瞬间作用,效果会好很多。详询上海依肯 工程师 林万翠

ikn改进型药物混合胶体磨由2级结构组成。

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高精细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠

CMSD2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

从设备角度分析,影响研磨效果的因素:

1 磨头的形式(卧式和立式)

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构(见磨头结构)

4 物料在磨头墙体的停留时间,乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-转子 间距 (m)

由上可知,研磨速率取决于以下因素:

–   磨头的线速率

–   在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 (相对而言)

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

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